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光刻是什么?Mr Question解答

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发表于 12-3-2023 01:01 PM | 显示全部楼层 |阅读模式
DUV光刻機可以量產了,補齊雙工件台和平面光柵激光干涉儀,水平達到ASML,兩次光刻達14納米,三次達7納米,四次達5納米。


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 楼主| 发表于 12-3-2023 01:02 PM | 显示全部楼层
DUV可生產5納米芯片,只用DUV,SAQP技術兩次光刻可微縮4倍,28納米縮至7納米,再伸延至5納米,EUV也需採用。EUV對DUV的成本比。


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发表于 12-3-2023 01:02 PM 来自手机 | 显示全部楼层
成本太高了吧
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 楼主| 发表于 12-3-2023 01:04 PM | 显示全部楼层
華為的EUV突破,華為+中科院研發EUV光刻技術,華為的專利聚焦技術,中科院的高能激光和專利物鏡設計,可能超越現有EUV到掩模亮度或降低EUV....


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 楼主| 发表于 12-3-2023 01:05 PM | 显示全部楼层
華為回歸第一炮,華為鰓鵬侍服器芯片,28納米和7納米,在MWC 2023華為展出的多片黑膠紙芯片,是否華為芯片回歸?唯生產?怎樣製造?

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 楼主| 发表于 12-3-2023 01:06 PM | 显示全部楼层

4个频道,慢慢看,慢慢消化
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发表于 12-3-2023 02:46 PM 来自手机 | 显示全部楼层
本帖最后由 lumixcer 于 12-3-2023 02:47 PM 编辑

中国佬近年来已缔造多项突破,这叉烧机难不到他。。
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